NVIDIA联手台积电等合作伙伴将AI技术融入2nm工艺

　　英伟达宣布在 GTC 2023 上，与台积电、ASML 和 Synopsys 这三大半导体行业巨头合作，加速将计算光刻技术整合到芯片设计和制造领域，并推出了名为“cuLitho”的计算光刻库。

　　计算光刻主要是利用软件对整个光刻过程进行建模和仿真，利用光掩模文件的数学预处理来调整光刻中的像差和效应，优化光源和掩模形状，最大限度地减少光刻成像和芯片设计之间的差异，最终提高良率. 然而，随着芯片制造向3nm及以下的方向发展，每个光掩模的负担呈指数增长，增加了制造难度。

　　目前，计算光刻构成了芯片设计和制造中最重要的计算负担。大型数据中心必须全天候 24/7 运行，每年消耗数十亿个 CPU 小时来为光刻系统创建光掩模，资本支出和能源消耗惊人。NVIDIA与台积电、ASML、Synopsys合作，时隔四年在计算光刻技术上取得重大突破，推出cuLitho库，为下一代2nm工艺奠定基础。

　　NVIDIA断言，使用 GPU 而不是 CPU 进行计算可以将计算光刻效率提高 40 倍。cuLitho 库支持将工作负载转换为 GPU 并行处理，允许 500 个 NVIDIA DGX H100 完成 40,000 个 CPU 系统的任务。这显着减轻了晶圆厂的负担，仅需九分之一的功耗即可每天生产三到五倍的光掩模，而光掩模以前需要两周才能生产，现在需要通宵处理。

　　从长远来看，在人工智能技术的帮助下，cuLitho 计算光刻库可以实现更优的设计规则、更高的密度和更高的良率。